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晶圓對(duì)準(zhǔn)設(shè)備

簡(jiǎn)要描述:晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備專為晶圓與晶圓對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì),晶圓尺寸大可達(dá)150 mm。EV Group鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供手動(dòng)高精度帶有底部顯微鏡的校準(zhǔn)臺(tái)。EVG的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度能滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中苛刻的對(duì)準(zhǔn)要求。

  • 產(chǎn)品型號(hào):EVG610 BA
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時(shí)間:2024-11-09
  • 訪  問  量: 3820

詳細(xì)介紹

  晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備用于晶圓到晶圓對(duì)準(zhǔn)的手動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),適用于學(xué)校和工業(yè)研究。
  一、簡(jiǎn)介

  EVG610鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)專為晶圓與晶圓對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì),晶圓尺寸最大可達(dá)150 mm。EV Group鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供手動(dòng)高精度帶有底部顯微鏡的校準(zhǔn)臺(tái)。EVG的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度能滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中苛刻的對(duì)準(zhǔn)要求。

 

  二、特征

  zui適用于EVG501和EVG510鍵合系統(tǒng)
  晶圓和基板尺寸可達(dá)150/200 mm
  手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)
  手動(dòng)底側(cè)顯微鏡
  基于Windows系統(tǒng)的用戶界面
  *的多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶,各種訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)
  桌面系統(tǒng)設(shè)計(jì),占地面積zui小
  支持IR對(duì)準(zhǔn)過程
  研發(fā)和試生產(chǎn)線的zui低的擁有成本(TCO)
三、技術(shù)參數(shù)
  1.基本配置:
  臺(tái)式
  機(jī)架:可選
  隔振模式:被動(dòng)
  2.對(duì)準(zhǔn)方式:
  背部對(duì)住精度:±2μm 3 σ
  透射對(duì)準(zhǔn)精度:±1μm 3 σ
  紅外對(duì)準(zhǔn):可選
  3.對(duì)準(zhǔn)臺(tái):
  高精度測(cè)微計(jì):手動(dòng)
  可選:機(jī)械測(cè)微計(jì)
  楔形補(bǔ)償:自動(dòng)

 

 

 

 

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